Gleichmäßige Temperaturplatte aus Graphit-VC
Jincheng Graphite bietet als professioneller Hersteller von gleichmäßigen Graphit-Temperaturplatten eine hohe Wärmeleitfähigkeit und gleichmäßige Graphit-VC-einheitliche Temperaturplatten. Diese Platten wurden speziell für die Halbleiterkühlung und Präzisionselektronikgeräte entwickelt und zeichnen sich durch eine hohe Wärmeleitfähigkeit, eine stabile Struktur und eine lange Lebensdauer aus. Sie werden häufig in leistungsstarken Chip-Kühlanwendungen-verwendet.
Kernstärken
Nano-Graphitsubstrat
Durch den Einsatz eines hochreinen Graphits (Kohlenstoffgehalt größer oder gleich 99,99 %) und eines Metallmatrix-Verbundprozesses erreicht die Wärmeleitfähigkeit 300 W/m·K, wodurch eine gleichmäßige Wärmeableitung auf Waferebene erreicht und das Risiko lokaler Hotspots verringert wird.
Hoch-effiziente Wärmeverteilungsfähigkeit
Durch die Kombination mehrerer Graphitschichten mit einer Vakuumkammer wird der Wärmewiderstand auf 0,05 K/W reduziert, wodurch sichergestellt wird, dass Hochleistungschips auch unter extremen Belastungen eine stabile Arbeitstemperatur beibehalten.
Beständig gegen extreme Umgebungen
Verträgt einen Temperaturbereich von -200 bis 3000 Grad, eignet sich für Hochtemperatur-Reaktionsumgebungen in Halbleiteranlagen und weist gleichzeitig eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit und Kompatibilität mit Prozessgasen wie Wasserstoff und Stickstoff auf.
Anwendungsszenario
Ausrüstung für die Halbleiterfertigung
Bei Hochtemperaturprozessen wie CVD und PVD kann die gleichmäßige Temperaturplatte aus Graphit-VC die Wärme gleichmäßig verteilen, wodurch Materialverformungen verhindert und die Prozessstabilität verbessert werden.
Hochenergie-Lasersystem
Es ist an Hochenergie-Laserhohlräume angepasst und leitet die Wärme schnell über die Platte mit gleichmäßiger Temperatur ab, um die Sicherheit der Ausrüstung bei kontinuierlichem Hochleistungsbetrieb zu gewährleisten.
Vakuum-Umgebungsheizsystem
In Schritten wie dem Trocknen und Glühen des Wafers sorgt die Platte mit gleichmäßiger Temperatur für eine gleichmäßige Wärmeverteilung und verringert so das Risiko von Materialschäden durch thermische Belastung.
Technische Spezifikationen
| Wärmeleitfähigkeit | 250 - 400 W/m·K (anpassbar an die Prozessanforderungen) |
| Betriebstemperaturbereich | -200 Grad bis 3000 Grad |
| Kompatible Gase | Wasserstoff, Stickstoff, Argon usw. (Halbleiterprozessgase) |
| Oberflächenbehandlung | Plasmapolieren / Beschichten (anpassbar) |
Jincheng Graphite Technology Assurance
Basierend auf 20 Jahren Erfahrung in der Graphitmaterialforschung setzt Jincheng Graphite die patentierte Vakuum-Verbundtechnologie und die Nanometer-Graphitfülltechnologie ein, um den langfristig stabilen Betrieb des Kühlkörpers unter extremen Bedingungen sicherzustellen. Das Produkt hat die ISO 9001-Qualitätssystemzertifizierung und die AS9100-Luft- und Raumfahrtnormen bestanden und erfüllt damit die strengen Anforderungen der hochpräzisen Halbleiterfertigung für das Wärmemanagement.
Kooperationsverpflichtung
Jincheng Graphite bietet einen maßgeschneiderten Komplettservice vom Design über die Produktion bis zum After-Sales. Dabei werden kleine{2}Serienversuche und groß angelegte{3}Anpassungen unterstützt, wodurch ein kurzer Lieferzyklus und kontrollierbare Kosten gewährleistet werden. Über das globale Logistiknetzwerk und lokale Serviceteams bietet das Unternehmen seinen Kunden effiziente und stabile Graphit-VC-Einheitstemperaturplattenlösungen und trägt so dazu bei, einen langfristig stabilen Betrieb hochpräziser Prozesse zu erreichen.
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