Wafer-Graphit-Träger
Als professioneller Hersteller von Wafer-Graphit-Trägern bietet Jincheng Graphite hoch{0}reine und hoch-stabile Wafer-Graphit-Träger an. Es wurde speziell für Hochtemperaturprozesse in der Halbleiterfertigung entwickelt und zeichnet sich durch hervorragende thermische Gleichmäßigkeit, Korrosionsbeständigkeit und lange Lebensdauer aus. Es wird häufig in Präzisionsbereichen wie der Waferverarbeitung und der Lithographie eingesetzt.
Kernstärken
Nano-Graphitsubstrat
Durch die Verwendung eines hochreinen Graphits (mit einem Kohlenstoffgehalt von mindestens 99,99 %) und eines Metallverbundprozesses erreicht die Wärmeleitfähigkeit bis zu 300 W/m·K, wodurch eine gleichmäßige Temperatur auf der Waferoberfläche gewährleistet und das Risiko von Verformungen durch thermische Spannung verringert wird.
Kompatibilität mit Vakuumumgebungen
Verträgt einen extremen Temperaturbereich von -200 bis 3000 Grad, eignet sich für Vakuumprozesse wie Lithographie und Ätzen, verfügt über eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit und ist mit chemischen Gasen wie Wasserstoff und Stickstoff kompatibel.
Individuelle Anpassungsfähigkeit
Unterstützt verschiedene Wafergrößen (z. B. 12 Zoll und 8 Zoll) und spezielle Oberflächenbehandlungsprozesse und erfüllt präzise Anforderungen für verschiedene Halbleiterfertigungsszenarien.
Anwendungsszenario
Wafer-Lithographieverfahren
Während des Auftragens von Fotolack sorgt der Graphitträger für eine stabile Wärmeverteilungsumgebung und reduziert so die durch Temperaturunterschiede verursachten Verformungsprobleme des Wafers.
Hochtemperatur-Ätzausrüstung
Beim Plasmaätzen kann die hohe Wärmeleitfähigkeit des Trägers die Wärme schnell ableiten und so die Waferoberfläche vor Schäden durch hohe Temperaturen schützen.
Vakuumbeschichtungssystem
Kompatibel mit CVD, PVD und anderen Prozessen, um sicherzustellen, dass der Wafer während der Hochtemperaturabscheidung seine Ebenheit beibehält und die Ausbeute verbessert wird.
Technische Spezifikationen
| Wärmeleitfähigkeit | 250 - 400 W/m·K (anpassbar) |
| Betriebstemperaturbereich | -200 Grad bis 3000 Grad |
| Kompatible Gase | Wasserstoff, Stickstoff, Argon usw. (Halbleiterprozessgase) |
| Oberflächenbehandlung | Plasmapolieren / Beschichten (optional) |
Jincheng Graphite Technology Assurance
Basierend auf 20 Jahren Erfahrung in der Forschung und Entwicklung von Graphitmaterialien nutzt Jincheng Graphite die patentierte Vakuum-Verbundtechnologie und die Nanometer-Graphitfülltechnologie, um die Langzeitstabilität des Trägers unter extremen Bedingungen sicherzustellen. Das Produkt hat die Zertifizierung des Qualitätssystems ISO 9001 und die Luft- und Raumfahrtnorm AS9100 bestanden und erfüllt damit die strengen Anforderungen der Halbleiterfertigung an das Wärmemanagement.
Kooperationsverpflichtung
Jincheng Graphite bietet einen maßgeschneiderten Komplettservice vom Design über die Produktion bis zum After-Sales. Dabei werden kleine{2}Serienversuche und groß angelegte{3}Anpassungen unterstützt, wodurch ein kurzer Lieferzyklus und kontrollierbare Kosten gewährleistet werden. Über das globale Logistiknetzwerk und lokale Serviceteams bietet das Unternehmen seinen Kunden effiziente und zuverlässige Wafer-Graphit-Trägerlösungen und trägt so zur Verbesserung der Halbleiterfertigungsprozesse bei.
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